Browsing by Author Kozák, Tomáš

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
or enter first few letters:  
Showing results 1 to 9 of 9
Issue DateTitleAuthor(s)
2017Controlled reactive HiPIMS: effective technique for low-temperature (300°C) synthesis of VO2 films with semiconductor-to-metal transitionKolenatý, David; Vlček, J.; Kozák, Tomáš; Houska, Josef; Čerstvý, Radomír
2019High-rate reactive high-power impulse magnetron sputtering of transparent conductive Al-doped ZnO thin films prepared at ambient temperatureRezek, Jiří; Novák, Petr; Houška, Jiří; Pajdarová, Andrea Dagmar; Kozák, Tomáš
2018Identifikace elektrických vlastností podle tloušťky v vrstvě oxidu zinečnatého dopovaného hliníkem naprašovaného při 100 ° CNovák, Petr; Očenášek, Jan; Kozák, Tomáš; Savková, Jarmila
2018Influence of oxygen on the resistivity of co-sputtered transparent AZO filmsNovák, Petr; Kozák, Tomáš; Šutta, Pavol; Kolega, Michal; Bláhová, Olga
2019The influence of positive pulses on HiPIMS deposition of hard DLC coatingsSantiago, J.A.; Fernández-Martínez, I.; Kozák, Tomáš; Čapek, Jiří; Wennberg, A.; Molina-Aldareguia, J.M.; Bellido-González, V.; González-Arrabal, R.; Monclús, M.A.
2019Ion-flux characteristics during low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films using controlled reactive HiPIMSVlček, Jaroslav; Kolenatý, David; Kozák, Tomáš; Houška, Jiří; Čapek, Jiří; Kos, Šimon
2013Modelování vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojů pro depozici vrstevKozák, Tomáš
2016Monte Carlo simulace napouštění reaktivního plynu pro reaktivní magnetronové naprašování vrstevŠula, Michal; Kozák, Tomáš
2015Simulace napouštění reaktivního plynu do vakuové komoryKrejčová, Milada; Kozák, Tomáš