DSpace Kolekce:
http://hdl.handle.net/11025/106
2024-03-19T09:49:33ZMagnetronová depozice tenkovrstvých slitin ze systému W-Zr-Cu
http://hdl.handle.net/11025/55048
Název: Magnetronová depozice tenkovrstvých slitin ze systému W-Zr-Cu
Autoři: Hodan, Ondřej
Abstrakt: Tato diplomová práce se zabývá přípravou a zkoumáním magnetronově naprašovaných tenkovrstvých materiálů ze systému W-Zr-Cu. Jedná se o zcela nové materiály, o kterých zatím nebyla publikována žádná studie. Cílem práce bylo připravit tyto materiály s širokém rozsahu složení a charakterizovat je pomocí různých analytických metod. Vrstvy byly zkoumány z hlediska struktury, mikrostruktury a povrchové morfologie pomocí rentgenové difrakce, skenovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil. Dále pak byly indetačními metodami měřeny mechanické vlastnosti, přičemž byl brán ohled na přítomnost pile-up efektů. V neposlední řadě byla také měřena elektrická rezistivita pomocí čtyřbodové metody. Naměřená data byla zpracovávána a diskutována v kontextu současného poznání dílčích systémů Zr-Cu, W-Zr a W-Cu.2023-01-01T00:00:00ZHodan, OndřejOptická emisní spektroskopie ve vysokovýkonovém impulzním magnetronovém rozprašování multikomponentního terče
http://hdl.handle.net/11025/53970
Název: Optická emisní spektroskopie ve vysokovýkonovém impulzním magnetronovém rozprašování multikomponentního terče
Autoři: Němcová, Veronika
Abstrakt: Tato diplomová práce se zabývá zjišťováním trendů v chování jednotlivých druhů částic, kterými byly atomy a ionty argonu, niobu a uhlíku, v různých oblastech plazmatu při rozprašování terče složeného z více prvků, v tomto případě NbC. Dále se také zabývá stanovením průměrných koncentrací těchto částic, jejich vývojem v závislosti na čase a určením excitačních teplot. Použitou experimentální metodou je optická emisní spektroskopie (OES), což je nejjednodušší metoda využívaná k diagnostice plazmatu a chování částic v něm. Teoretická část se zabývá problematikou magnetronového naprašování, konkrétně vysokovýkonového impulzního magnetronového naprašování neboli HiPIMS, a představuje různé analytické metody. Kromě OES je zde také popsána Langmuirova sonda, hmotnostní spektroskopie a metoda založená na poměrech koncentrace excitovaného stavu a výbojového proudu. Při experimentálním měření intenzity emisních čar byl použit systém OES, který pomocí kolimátoru snímal světlo z plazmového výboje. Světlo poté bylo vedeno optickým vláknem do spektrografu opatřeného ICCD kamerou. Následně získaná data byla analyzována a vyhodnocena. V rámci tohoto vyhodnocení byl proveden výpočet koncentrace částic, jejich závislosti na čase a stanovení excitační teploty. Výsledky této práce budou dále využity ve výzkumu zabývajícím se vysokovýkonovým magnetronovým naprašováním.2023-01-01T00:00:00ZNěmcová, VeronikaPříprava a charakterizace tenkých vrstev transparentních vodivých oxidů pomocí magnetronového naprašování
http://hdl.handle.net/11025/53842
Název: Příprava a charakterizace tenkých vrstev transparentních vodivých oxidů pomocí magnetronového naprašování
Autoři: Koloros, Jan
Abstrakt: Hlavním tématem této diplomové práce je depozice transparentních vodivých oxidů mědi pomocí magnetronového naprašování a měření jejich elektrických a transparentních vlastností, jako je elektrická rezistivita, koncentrace, pohyblivost volných nosičů náboje a optická transparentnost připravovaných tenkých vrstev. Jednotlivé připravované tenké vrstvy se liší svými depozičními podmínkami, jako stěžejní se uvažuje vliv změny průtoku reaktivního plynu (kyslíku a dusíku). V závislosti na množství průtoku kyslíku při depozici dochází ke změnám optické transparentnosti a elektrické rezistivity připravovaných transparentních vodivých oxidových vrstev. Kyslík je zde dodáván za účelem vytvoření tenké transparentní vodivé vrstvy s p-typovou vodivostí. V případě změny průtoku dusíku, za konstantního množství kyslíku v depozicích, se také mění elektrické a transparentní vlastnosti transparentních vodivých oxidů. Jako další byly v praktické části práce vybrány depoziční parametry, které poskytují ideální kompromis mezi optickou transparentností a elektrickou rezistivitou, aplikovány na čtyři vybrané geometrie za účelem zkoumání přesnějších výsledků měření koncentrace a pohyblivosti volných nosičů náboje s použitím van der Pauwovy metody.2023-01-01T00:00:00ZKoloros, JanModelování růstu kovových nanočástic v agregační komoře magnetronového nanočásticového zdroje
http://hdl.handle.net/11025/46100
Název: Modelování růstu kovových nanočástic v agregační komoře magnetronového nanočásticového zdroje
Autoři: Teřl, Vít
Abstrakt: Tato práce se zabývá růstem nanočástic v magnetronovém zdroji nanočástic a modelování procesů probíhajících ve zdroji.
Cílem této práce bylo nastudovat fyzikální procesy tvorby nanočástic v plynné fázi, které nastávají ve zdroji nanočástic a na základě toho vytvořit počítačový model.
Model je založený na kinetické Monte Carlo metodě. Čistá kinetická Monte Carlo by pro tuto simulaci byla nedostatečná, proto upravujeme algoritmus pomocí tzv. prahové metody (v originále Threshold method). V práci je popsána implementace tohoto modelu se všemi nutnými základními procesy pro vznik, růst a pohyb nanočástic v komoře. Hlavním výsledkem simulace je rozdělení velikostí nanočástic na výstupu ze zdroje nanočástic.
V poslední části byla provedena diskuze výsledků simulace pro tři různé režimy a pro vypnutí některých procesů v simulaci. Výsledky byly porovnány s experimentálními výsledky. Pro některé parametry simulace model odhaduje trendy experimentálních výsledků přesně, pro jiné je daný model nedostatečný a je provedena diskuze, které limitace modelu je vhodné vylepšit.2021-01-01T00:00:00ZTeřl, Vít