Název: Vliv energie částic na vlastnosti vrstev Me-B-C-(N) připravených reaktivní magnetronovou depozicí
Další názvy: Effect of particle energy on properties of Me-B-C-(N) films prepared by reactive magnetron sputtering
Autoři: Šímová, Veronika
Vedoucí práce/školitel: Vlček, Jaroslav
Mareš, Pavel
Oponent: Rusňák, Karel
Datum vydání: 2014
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: diplomová práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/12669
Klíčová slova: magnetronové naprašování;hmotnostní spektroskopie;pnutí;rozdělovací funkce;odraz atomů
Klíčová slova v dalším jazyce: magnetron sputtering;mass spectroscopy;stress;distribution function;back-scattered atoms
Abstrakt: Tato diplomová práce se zabývá problematikou tenkých vrstev na bázi přechodových kovů (Ti, Zr a Hf). Hlavním cílem práce bylo zjistit příčinu vysokého pnutí v materiálech Hf-B-C-(N) oproti materiálům na bázi Zr a Ti připravených za stejných podmínek. Za tímto účelem byla použita hmotnostní spektroskopie. Byly zkoumány vrstvy Me-B-C-N připravené při 45 % Me v erozní zóně terče B4C-Me ve směsi plynů Ar + 5 % N2. Bylo zjištěno, že při pulzním magnetronovém naprašování nelze objasnit příčinu vysokého pnutí v materiálech na bázi Hf, jelikož na rozdělovací funkce má výrazný vliv překmit napětí do kladných hodnot, který následuje po pulzu záporného napětí (tzv. overshoot). Dále je zde ukázán vliv depozičních parametrů na rozdělovací funkce. Použitím hmotnostní spektroskopie při konvenčním dc magnetronovém naprašování bylo zjištěno, že dochází ke zvyšování energie iontů Ar+, které majoritně vznikají ionizací atomů Ar odražených od terče, s rostoucí hmotností přechodového kovu na terči. Podařilo se tak objasnit příčinu vysokého pnutí v materiálech na bázi Hf. Nakonec jsou zmíněny připravené materiály Me-B-C-N a jejich vlastnosti. Bylo zjištěno, že s rostoucí hmotností použitého přechodového kovu roste kompresní pnutí v materiálu.
Abstrakt v dalším jazyce: This diploma thesis deals with thin films based on nitrides and borides of transition metals. The main attention was devoted to find the reason of high compressive stress in Hf-B-C-(N) materials compared to materials based on Zr and Ti prepared under the same discharge conditions. For this purpose, mass spectroscopy was used. Thin films Me-B-C-N prepared at a fixed 45 % Hf fraction in the target erosion area in a 95 % Ar + 5 % N2 gas mixture were investigated. Firstly, it is shown that for pulsed magnetron sputtering it is not possible to explain the cause of the high compressive stress in Hf-based materials because of the strong effect of the overshoot on Ar ions energies. Effect of deposition parameters on Ar ions energies is also shown. Secondly, it was shown that Ar ions energies rise with the relative atomic mass of the transition metal during convention dc magnetron sputtering. These Ar ions are created by an ionization of Ar atoms reflected from the target. This result clarifies the reason of the high compressive stress in Hf-based materials. Finally, prepared materials Me-B-C-N and their properties are mentioned. It is shown that the compressive stress rises with the transition metal mass.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení
Vyskytuje se v kolekcích:Diplomové práce (KFY) / Theses (DP)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
DP-Simova_Veronika.pdfPlný text práce2,61 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Simova_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce321,53 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Simova_oponent.pdfPosudek oponenta práce569,83 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Simova_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce246,66 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/12669

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.