Title: Redesign of the supply electronics of the temperature gauge in a HF CVD reactor
Other Titles: Rekonštrukcia napájacích obvodov merača teploty v HF CVD reaktore
Authors: Kadlečíková, Magdaléna
Breza, Juraj
Klotton, G.
Kolmačka, Michal
Vančo, Ľubomír
Citation: Electroscope. 2016, č. 1.
Issue Date: 2016
Publisher: Západočeská univerzita v Plzni, Fakulta elektrotechnická
Document type: článek
article
URI: http://147.228.94.30/images/PDF/Rocnik2016/Cislo1_2016/r10c1c6.pdf
http://hdl.handle.net/11025/17670
ISSN: 1802-4564
Keywords: uhlíkové nanotrubičky;HF CVD reaktor;pulzní napájecí zdroj
Keywords in different language: carbon nanotubes;HF CVD reactor;pulse mode power supply
Abstract: HF CVD (hot filament chemical vapour deposition) reaktor je technologické zariadenie, v ktorom sa na rôznych substrátoch syntetizujú uhlíkové nanorúr ky. Reaktor pracuje na princípe pyrolýzy metánu a vodíka. Substrát je umiestnený na molybdénovom držiaku niekoľko milimetrov pod žeravenými (2200 °C) volfrámovými vláknami a jeho teplota počas syntézy je optimalizovaná cca na 600 °C. Merania a regulácie teploty rotačného držiaku v priebehu syntézy sa vykonáva teplomerom s bezdrôtovým optickým prenosom dát. Počas prevádzky zariadenia sa v yskytol závažný probl é m, a to nestabilné napájanie, čo viedlo ku kolísaniu teploty v reaktore. To je dôvod, prečo bolo navrhnuté iné riešenie za použitia impulzného napájacieho zdroja. Merací reťazec bol zjednodušený od stránením mobilných kontaktov a izolačných zosilňovačov, ktoré po prehriatí pracovali ne s p r ávne a skresľovali údaje o teplote. Výsledkom tejto práce je návrh a rekonštrukcia obvodov napájajúcich merač teploty v HF CVD reaktore.
Abstract in different language: HF CVD (hot filament chemical vapour deposition) reactor is a technological apparatus in which carbon nanotubes are synthesized on various substrates. The reactor operates on the principle of pyrolysis of methane and hydrogen. The substrate is placed on a molybdenum holder, several millimetres below hot (2200 °C) tungsten filaments and its temperature during synthesis is optimized to approximately 600 °C. Measurement and control of the temperature of the rotating holder during synthesis are carried out by a temperatur e gauge with wireless optical data transfer. During operation of the facility a severe drawback was encountered, namely instable supplying resulting in temperature fluctuations in the reactor. This is why another solution has been designed utilizing a swit ched mode power supply. The measurement string has been simplified by removing mobile contacts and isolation amplifiers that behaved incorrectly – when they became overheated – and distorted the data on temperature. The result of the present work is the de sign and reconstruction of the circuitry supplying the temperature meter in the HF CVD reactor.
Rights: Copyright © 2015 Electroscope. All Rights Reserved.
Appears in Collections:Číslo 1 (2016)
Číslo 1 (2016)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
r10c1c6.pdfPlný text453,89 kBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/17670

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.