| Název: | Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev oxidů vanadu |
| Další názvy: | Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering of Vanadium Oxides |
| Autoři: | Vytisk, Tomáš |
| Vedoucí práce/školitel: | Vlček, Jaroslav |
| Oponent: | Kozák, Tomáš |
| Datum vydání: | 2015 |
| Nakladatel: | Západočeská univerzita v Plzni |
| Typ dokumentu: | diplomová práce |
| URI: | http://hdl.handle.net/11025/17815 |
| Klíčová slova: | hipims;oxid vanadu;reaktivní magnetronové naprašování;termochomické vrstvy |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | hipims;vanadium oxide;reactive magnetron sputtering;thermochromic thin films |
| Abstrakt: | Tato práce je zaměřena na vysokovýkonovou pulzní magnetronovou depozici tenkých vrstev oxidu vanadu. Cílem je vytvořit termochromickou vrstvu oxidu vanadu, jejíž přechodová teplota bude nižší než 68 °C a bude vykazovat změny propustnosti v oblasti infračerveného záření. Vrstvy byly připravovány v plynné směsi argonu a kyslíku za konstantního tlaku pracovního plynu par = 1.0 Pa. Vanadiový terč (99.999 %)byl zatěžován průměrnou výkonovou hustotou při depozici <Sd> = 12.4 14.0 W/cm2. Délka trvání pulzu byla t1 = 40, 50 a 80 s s opakovací frekvencí napájecího zdroje f = 250, 200 a 125 Hz, dle uvedeného pořadí. Pomocí elipsometrie byla zjištěna tloušťka deponovaných vrstev a zkoumány optické parametry jako index lomu n a extinkční koeficient k. V této práci jsou prezentovány výsledky vlivu depozičních parametrů, zejména délky trvání pulzu t1, teploty substrátu T a délky depozičního procesu t (tloušťky vrstvy) na termochromické vlastnosti připravených vrstev. |
| Abstrakt v dalším jazyce: | The aim of this thesis is to fabricate thermochromic thin film of vanadium oxide. High power impulse magnetron sputtering is used to prepare a thermochromic film with structure changes below transition temperature Tc = 68 °C providing variable transmittance in infrared spectrum. The films were prepared in oxygen and argon gas mixture, at pressure of working gas (Ar) par = 1.0 Pa. A vanadium target (99.999 %) was loaded by average power density during deposition <Sd> = 12.4 14.0 W/cm2. Other deposition parameters were: voltage pulse length t1 = 40, 50 and 80 s with power supply repetition frequency f = 250, 200 a 125 Hz, respectively. Ellipsometry was used to measure optical characteristics () and parameters like refraction index n and extinction coefficient k. This work presents an influence of deposition parameters (voltage pulse length t1, substrate temperature T and deposition time t) on thermochromic behaviour of the thin films. |
| Práva: | Plný text práce je přístupný bez omezení. |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Diplomové práce / Theses (KFY) |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|---|
| Master's_Thesis_Vytisk.pdf | Plný text práce | 2,94 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| vedouci-Vytisk_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 338,62 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| oponent-Vytisk_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 868,61 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| obhajoba-Vytisk_obhajoba.pdf | Průběh obhajoby práce | 240,42 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/17815Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.