Full metadata record
| DC pole | Hodnota | Jazyk |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | Vlček, Jaroslav | |
| dc.contributor.author | Vytisk, Tomáš | |
| dc.contributor.referee | Kozák, Tomáš | |
| dc.date.accepted | 2015-06-19 | |
| dc.date.accessioned | 2016-03-15T08:37:44Z | - |
| dc.date.available | 2014-05-01 | cs |
| dc.date.available | 2016-03-15T08:37:44Z | - |
| dc.date.issued | 2015 | |
| dc.date.submitted | 2015-05-31 | |
| dc.identifier | 64977 | |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/17815 | |
| dc.description.abstract | Tato práce je zaměřena na vysokovýkonovou pulzní magnetronovou depozici tenkých vrstev oxidu vanadu. Cílem je vytvořit termochromickou vrstvu oxidu vanadu, jejíž přechodová teplota bude nižší než 68 °C a bude vykazovat změny propustnosti v oblasti infračerveného záření. Vrstvy byly připravovány v plynné směsi argonu a kyslíku za konstantního tlaku pracovního plynu par = 1.0 Pa. Vanadiový terč (99.999 %)byl zatěžován průměrnou výkonovou hustotou při depozici <Sd> = 12.4 14.0 W/cm2. Délka trvání pulzu byla t1 = 40, 50 a 80 s s opakovací frekvencí napájecího zdroje f = 250, 200 a 125 Hz, dle uvedeného pořadí. Pomocí elipsometrie byla zjištěna tloušťka deponovaných vrstev a zkoumány optické parametry jako index lomu n a extinkční koeficient k. V této práci jsou prezentovány výsledky vlivu depozičních parametrů, zejména délky trvání pulzu t1, teploty substrátu T a délky depozičního procesu t (tloušťky vrstvy) na termochromické vlastnosti připravených vrstev. | cs |
| dc.format | 56 s. | cs |
| dc.format.mimetype | application/pdf | |
| dc.language.iso | en | en |
| dc.publisher | Západočeská univerzita v Plzni | cs |
| dc.rights | Plný text práce je přístupný bez omezení. | cs |
| dc.subject | hipims | cs |
| dc.subject | oxid vanadu | cs |
| dc.subject | reaktivní magnetronové naprašování | cs |
| dc.subject | termochomické vrstvy | cs |
| dc.title | Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev oxidů vanadu | cs |
| dc.title.alternative | Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering of Vanadium Oxides | en |
| dc.type | diplomová práce | cs |
| dc.thesis.degree-name | Ing. | cs |
| dc.thesis.degree-level | Navazující | cs |
| dc.thesis.degree-grantor | Západočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných věd | cs |
| dc.thesis.degree-program | Aplikované vědy a informatika | cs |
| dc.description.result | Obhájeno | cs |
| dc.rights.access | openAccess | en |
| dc.description.abstract-translated | The aim of this thesis is to fabricate thermochromic thin film of vanadium oxide. High power impulse magnetron sputtering is used to prepare a thermochromic film with structure changes below transition temperature Tc = 68 °C providing variable transmittance in infrared spectrum. The films were prepared in oxygen and argon gas mixture, at pressure of working gas (Ar) par = 1.0 Pa. A vanadium target (99.999 %) was loaded by average power density during deposition <Sd> = 12.4 14.0 W/cm2. Other deposition parameters were: voltage pulse length t1 = 40, 50 and 80 s with power supply repetition frequency f = 250, 200 a 125 Hz, respectively. Ellipsometry was used to measure optical characteristics () and parameters like refraction index n and extinction coefficient k. This work presents an influence of deposition parameters (voltage pulse length t1, substrate temperature T and deposition time t) on thermochromic behaviour of the thin films. | en |
| dc.subject.translated | hipims | en |
| dc.subject.translated | vanadium oxide | en |
| dc.subject.translated | reactive magnetron sputtering | en |
| dc.subject.translated | thermochromic thin films | en |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Diplomové práce / Theses (KFY) | |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|---|
| Master's_Thesis_Vytisk.pdf | Plný text práce | 2,94 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| vedouci-Vytisk_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 338,62 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| oponent-Vytisk_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 868,61 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| obhajoba-Vytisk_obhajoba.pdf | Průběh obhajoby práce | 240,42 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/17815Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.