Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films on silicon substrate at low deposition temperatures

Full metadata record

DC pole	Hodnota	Jazyk
dc.contributor.author	Kolenatý, David
dc.contributor.author	Houška, Jiří
dc.contributor.author	Rezek, Jiří
dc.contributor.author	Čerstvý, Radomír
dc.contributor.author	Vlček, Jaroslav
dc.contributor.editor	Lukeš, Vladimír
dc.date.accessioned	2016-05-27T07:33:50Z
dc.date.available	2016-05-27T07:33:50Z
dc.date.issued	2016
dc.identifier.citation	LUKEŠ, Vladimír ed. Studentská vědecká konference: magisterské a doktorské programy, sborník rozšířených abstraktů, květen 2016, Plzeň. Plzeň: Západočeská univerzita v Plzni, 2016, s. [35-36]. ISBN 978-80-261-0621-0.	cs
dc.identifier.isbn	978-80-261-0621-0
dc.identifier.uri	http://svk.fav.zcu.cz/download/sbornik_svk_2016.pdf
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11025/21376
dc.format	2 s.	cs
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	en	en
dc.publisher	Západočeská univerzita v Plzni	cs
dc.rights	© Západočeská univerzita v Plzni	cs
dc.subject	magnetronové naprašování	cs
dc.subject	vanad uhličitý	cs
dc.subject	teplota	cs
dc.title	Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films on silicon substrate at low deposition temperatures	en
dc.type	konferenční příspěvek	cs
dc.type	conferenceObject	en
dc.rights.access	openAccess	en
dc.type.version	publishedVersion	en
dc.subject.translated	magnetron sputtering	en
dc.subject.translated	vanadium dioxide	en
dc.subject.translated	temperature	en
dc.type.status	Peer-reviewed	en
Vyskytuje se v kolekcích:	Studentská vědecká konference 2016 Studentská vědecká konference 2016

Soubory připojené k záznamu:

Soubor	Popis	Velikost	Formát
Kolenaty.pdf	Plný text	357,43 kB	Adobe PDF	Zobrazit/otevřít

Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/21376

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání

navigace