Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.authorMareš, Pavel
dc.contributor.authorVlček, Jaroslav
dc.contributor.authorHouška, Jiří
dc.contributor.authorKohout, Jiří
dc.contributor.authorČapek, Jiří
dc.date.accessioned2019-10-14T10:00:09Z-
dc.date.available2019-10-14T10:00:09Z-
dc.date.issued2019
dc.identifier.citationMAREŠ, P., VLČEK, J., HOUŠKA, J., KOHOUT, J., ČAPEK, J. Effect of energetic particles on pulsed magnetron sputtering of hard nanocrystalline MBCN (M = Ti, Zr, Hf) films with high electrical conductivity. Thin Solid Films, 2019, roč. 688, č. 31 OCT 2019, s. „137334-1“-„137334-7“. ISSN 0040-6090.en
dc.identifier.issn0040-6090
dc.identifier.uri2-s2.0-85066488771
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/35393
dc.description.abstractNanokrystalické vrstvy MBCN (M = Ti, Zr, Hf) byly deponovány na Si substráty pomocí pulzního magnetronového rozprašování terče B4C-M. Teplota substrátů na plovoucím potenciálu byla 450 °C. Tlak plynné směsi 95 % Ar + 5 % N2 byl 0,5 Pa pro TiBCN a ZrBCN, pro HfBCN musel být zvýšen na 1,7 Pa kvůli snížení kompresního pnutí. Hmotnostní spektroskopie s energiovým rozlišením umožnila propojit energii Ar+ iontů bombardujících rostoucí vrstvy s vysokými kladnými překmity napětí následujícími po negativních pulzech. Monte-Carlo simulace umožnily odhadnout energii a tok rozprášených atomů M a odražených atomů Ar na substrát. Ukázali jsme, že energie a tok odražených atomů Ar silně rostou s hmotností terčových atomů M. Vrstvy MBCN obsahující 41–46 at. % M, 25–31 at. % B, 7–10 at. % C a 14–22 at. % N mají vysokou tvrdost (18–37 GPa), vysokou elastickou vratnost (69–85 %), vysoký poměr H/E* (0,10–0,14) a nízkou elektrickou rezistivitu (1,7–2,7 µΩm) při nízkém kompresním pnutí (pod 0,8 GPa).cs
dc.format7 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoenen
dc.publisherElsevieren
dc.relation.ispartofseriesThin Solid Filmsen
dc.rightsPlný text není přístupný.cs
dc.rights© Elsevieren
dc.subjectMBCN vrstvycs
dc.subjectTvrdostcs
dc.subjectElektrická vodivostcs
dc.subjectPulzní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectEnergetické částicecs
dc.titleEffect of energetic particles on pulsed magnetron sputtering of hard nanocrystalline MBCN (M = Ti, Zr, Hf) films with high electrical conductivityen
dc.title.alternativeVliv energetických částic na pulzní magnetronové naprašování tvrdých nanokrystalických vrstev MBCN (M = Ti, Zr, Hf) s vysokou elektrickou vodivostícs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.rights.accessclosedAccessen
dc.type.versionpublishedVersionen
dc.description.abstract-translatedNanocrystalline MBCN (M = Ti, Zr, Hf) films were deposited onto Si substrates using pulsed magnetron co-sputtering of a single B4C-M target. The substrate temperature was adjusted to 450 °C during the depositions on the substrates at a floating potential. The total pressure of 95% Ar + 5% N2 gas mixture was 0.5 Pa for TiBCN and ZrBCN, but it had to be increased up to 1.7 Pa for HfBCN to decrease very high compressive stress in the films. Energy-resolved mass spectroscopy was used to correlate the energy of Ar+ ions bombarding the growing films with high positive voltage overshoots after the negative voltage pulses. Monte-Carlo simulations were carried out to estimate the energy and flux of sputtered M atoms and backscattered Ar atoms at the substrate. It was found that the energy and flux of the backscattered Ar atoms increase significantly with the mass of the M atoms in the target. The MBCN films with 41–46 at.% of M, 25–31 at.% of B, 7–10 at.% of C and 14–22 at.% of N exhibit a high hardness (18–37 GPa), high elastic recovery (69–85%), high H/E* ratio (0.10–0.14) and low electrical resistivity (1.7–2.7 µΩm) at a low internal stress (less than 0.8 GPa).en
dc.subject.translatedMBCN filmsen
dc.subject.translatedHardnessen
dc.subject.translatedElectrical conductivityen
dc.subject.translatedPulsed magnetron sputteringen
dc.subject.translatedEnergetic particlesen
dc.identifier.doi10.1016/j.tsf.2019.05.053
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.identifier.document-number485256500014
dc.identifier.obd43926809
dc.project.IDGA17-08944S/Nanostrukturní povlaky syntetizované užitím vysoce reaktivního pulzního plazmatucs
Vyskytuje se v kolekcích:Články / Articles (KFY)
OBD

Soubory připojené k záznamu:
Soubor VelikostFormát 
OBD19_Mares,Vlcek,Houska_clanek.pdf1,11 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít  Vyžádat kopii


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/35393

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD