Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.authorVytisk, Tomáš
dc.contributor.refereeBaroch, Pavel
dc.date.accepted2012-06-27
dc.date.accessioned2013-06-19T06:55:58Z-
dc.date.available2011-05-01cs
dc.date.available2013-06-19T06:55:58Z-
dc.date.issued2012
dc.date.submitted2012-05-28
dc.identifier49976
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/3718
dc.description.abstractTato práce popisuje současnou problematiku tenkých vrstev na bázi Zr a B4C. Ukazuje jakých výsledků se do této doby dosáhlo a jaké jsou další možnosti. V další části práce jsou popsány metody tvorby tenkovrstvých systémů zejména pulzní magnetronová depozice. Dále pak metody studia a hodnocení vlastností vrstev (Mechanické, elektrické vlastnosti a oxidační odolnost vrstev za vysokých teplot). V závěru práce jsou prezentovány výsledky, kterých bylo dosaženo při tvorbě Zr-Si-B-C-N vrstev.cs
dc.format41 s. (49 500 znaků)cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectTenké vrstvy; magnetronová depozice; naprašování; Zr-Si-B-C-N; mechanické vlastnosti; rezistivita; oxidační odolnostcs
dc.titlePulzní magnetronová depozice tenkovrstvých materiálů ze systému Zr-Si-B-C-Ncs
dc.title.alternativePulsed magnetron deposition of Zr-Si-B-C-N thin filmsen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThis work investigates current problems of thin films based on Zr and B4C. It shows present achievements and opportunities of this field of study. In next part of the work are described methods of deposition of thin films especially pulsed magnetron deposition. Furthermore methods of observation and study of properties of thin films are described. For example: mechanical and electrical properties and high temperature oxidation resistance. The results of deposition of Zr-Si-B-C-N are present at the end of the work.en
dc.subject.translatedThin films; magnetron deposition; sputtering; Zr-Si-B-C-N; mechanical properties; resistivity; oxidation resistanceen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Bakalarska prace Tomas Vytisk.pdfPlný text práce2,12 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Vytisk_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce296,02 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Vytisk_oponent.pdfPosudek oponenta práce485,07 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Vytisk_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce202,52 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/3718

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)