Browsing by Author Kolenatý, David

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
or enter first few letters:  
Showing results 1 to 9 of 9
Issue DateTitleAuthor(s)
2017Controlled reactive HiPIMS: effective technique for low-temperature (300°C) synthesis of VO2 films with semiconductor-to-metal transitionKolenatý, David; Vlček, J.; Kozák, Tomáš; Houska, Josef; Čerstvý, Radomír
2020High‑performance thermochromic VO2‑based coatings with a low transition temperature deposited on glass by a scalable techniqueKolenatý, David; Vlček, Jaroslav; Bárta, Tomáš; Rezek, Jiří; Houška, Jiří; Haviar, Stanislav
2019Ion-flux characteristics during low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films using controlled reactive HiPIMSVlček, Jaroslav; Kolenatý, David; Kozák, Tomáš; Houška, Jiří; Čapek, Jiří; Kos, Šimon
2018Nízkoteplotní depozice vysoce funkčních termochromických povlaků na bázi VO2 použitím pulzního reaktivního magnetronového naprašováníKolenatý, David
2016Reactive high-power impulse magnetron sputtering of thermochromic VO2 films on silicon substrate at low deposition temperaturesKolenatý, David; Houška, Jiří; Rezek, Jiří; Čerstvý, Radomír; Vlček, Jaroslav
2012Reaktivní depozice vrstev pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového zdrojeKolenatý, David
2014Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev HfO2Kolenatý, David
2014Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice vrstev HfO2Kolenatý, David
2019Significant improvement of the performance of ZrO2/V1–xWxO2/ZrO2 thermochromic coatings by utilizing a second-order interferenceHouška, Jiří; Kolenatý, David; Vlček, Jaroslav; Bárta, Tomáš; Rezek, Jiří; Čerstvý, Radomír