Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorPajdarová, Andrea Dagmar
dc.contributor.authorVlček, Jaroslav
dc.date.accessioned2020-01-27T11:00:14Z-
dc.date.available2020-01-27T11:00:14Z-
dc.date.issued2019
dc.identifier.citationPAJDAROVÁ, A. D., VLČEK, J. Effects of power per pulse on reactive HiPIMS deposition of ZrO2 films: A time-resolved optical emission spectroscopy study. Journal of Vacuum Science and Technology A, 2019, roč. 37, č. 6, s. „061305-1“-„061305-10“. ISSN 0734-2101.en
dc.identifier.issn0734-2101
dc.identifier.uri2-s2.0-85075457325
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/36401
dc.description.abstractČasově rozlišená optická emisní spektroskopie byla provedena během řízené vysokovýkonové pulzní magnetronové depozice ZrO2 vrstev v argon-kyslíkové atmosféře. Byl studován vliv zvýšené hustoty výkonu aplikované v napěťových pulzech zkrácených z 200 na 50 μs. Bylo shledáno, že rozprašované atomy Zr jsou intenzivněji ionizovány a hustota Ar atomů více poklesla během těchto krátkých (50 μs) vysokovýkonových pulzů. Vyšší zpětný tok Zr iontů na terč během vysokovýkonového režimu výrazně přispívá k 34% poklesu v efektivnosti magnetronové depozice ZrO2 vrstev.cs
dc.format10 s.
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoenen
dc.publisherAIP Publishingen
dc.relation.ispartofseriesJournal of Vacuum Science and Technology Aen
dc.rights© AIP Publishingen
dc.subjectOptická emisní spektroskopiecs
dc.subjectdynamika procesucs
dc.subjectreaktivní HiPIMScs
dc.subjectdepozice ZrO2cs
dc.subjectopticky transparentní vrstvycs
dc.titleEffects of power per pulse on reactive HiPIMS deposition of ZrO2 films: A time-resolved optical emission spectroscopy studyen
dc.title.alternativeVliv výkonu v pulzu na reaktivní HiPIMS depozici ZrO2 vrstev: studie časově rozlišenou optickou emisní spektroskopiícs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.rights.accessopenAccessen
dc.type.versionpublishedVersionen
dc.description.abstract-translatedTime-resolved optical emission spectroscopy was carried out during controlled reactive high-power impulse magnetron sputtering of ZrO2 films in argon-oxygen gas mixtures. The effects of increased target power density applied in voltage pulses shortened from 200 to 50 μs were studied. It was found that the sputtered Zr atoms are much more ionized and the Ar atom density is more decreased near the target during the shorter (50 μs) high-power pulses. The higher backward flux of the Zr ions onto the target during this high-power discharge regime contributed significantly to a 34% decrease in the efficiency of the magnetron sputter deposition of ZrO2 films.en
dc.subject.translatedOptical emission spectroscopyen
dc.subject.translatedprocess dynamicsen
dc.subject.translatedreactive HiPIMSen
dc.subject.translatedZrO2 depositionen
dc.subject.translatedoptically transparent filmsen
dc.identifier.doi10.1116/1.5125721
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.identifier.document-number504231200016
dc.identifier.obd43927579
dc.project.IDGA17-08944S/Nanostrukturní povlaky syntetizované užitím vysoce reaktivního pulzního plazmatucs
Appears in Collections:Články / Articles (NTIS)
OBD

Files in This Item:
File SizeFormat 
OBD19_Pajdarova,Vlcek_clanek.pdf1,56 MBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/36401

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

search
navigation
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD