Název: Effect of hydrogen on sputtering discharge and properties of TiO2 films
Autoři: Musil, Jindřich
Ondok, Václav
Citace zdrojového dokumentu: XXVIII International conference on phenomena in ionized gases: July 15-20, 2007, Prague, Czech Republic: proceedings. Praha: Institute of Plasma Physics AS CR, 2007, p. 675-678.
Datum vydání: 2007
Nakladatel: Institute of Plasma Physics AS CR
Typ dokumentu: conferenceObject
konferenční příspěvek
URI: http://icpig2007.ipp.cas.cz/files/download/cd-cko/ICPIG2007/pdf/2P13-14.pdf
http://hdl.handle.net/11025/1437
ISBN: 978-80-87026-01-4
Klíčová slova: tenké vrstvy;reaktivní magnetronové naprašování;TiO2 vrtvy;hydrofilicita;optické vlastnosti
Klíčová slova v dalším jazyce: thin films;reactive magnetron sputtering;TiO2 films;hydrofilicity;optical properties
Abstrakt: This article reports on the effect of hydrogen addition into the Ar+O2 discharge mixture on the dc reactive magnetron sputtering process and on the structure of sputtered TiO2 films. The hydrogen plays a key role in reactive sputtering of electrically insulating oxides from metallic targets because it fully eliminates arcing on the sputtered target. The hydrogen also strongly influences the dependence of the partial pressure of oxygen pO2 vs. flow rate of oxygen φO2. Changes in the pO2=f(φO2) dependence caused by the addition of H2 into the Ar+O2 mixture are explained. Special attention is devoted to correlations between deposition parameters, structure, phase composition, optical properties and hydrophilic activity of TiOx≈2 films. It is shown that the presence of H2 in the Ar+O2 mixture does not prevent from the formation of superhydrophilic TiOx≈2 films.
Práva: © Jindřich Musil, Václav Ondok
Vyskytuje se v kolekcích:Konferenční příspěvky / Conference Papers (FAV)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
2P13-14.pdf589,07 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/1437

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.