Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.authorMusil, Jindřich
dc.contributor.authorKos, Šimon
dc.contributor.authorJaroš, Martin
dc.contributor.authorČerstvý, Radomír
dc.contributor.authorHaviar, Stanislav
dc.contributor.authorZenkin, Sergei
dc.contributor.authorČiperová, Zuzana
dc.date.accessioned2019-04-08T10:00:16Z-
dc.date.available2019-04-08T10:00:16Z-
dc.date.issued2019
dc.identifier.citationMUSIL, J., KOS, Š., JAROŠ, M., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S., ZENKIN, S., ČIPEROVÁ, Z. Coating of overstoichiometric transition metal nitrides (TMNx (x > 1)) by magnetron sputtering. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2019, roč. 58, č. SA, s. „SAAD10-1“-„SAAD10-9“. ISSN: 0021-4922en
dc.identifier.issn0021-4922
dc.identifier.uri2-s2.0-85062273442
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/33855
dc.description.abstractČlánek pojednává o přípravě silně nadstechiometrických povlaků ZrNx>1 a Ti(Al,V)Nx>1 reaktivním magnetronovým naprašováním. Jsou diskutovány problémy přípravy nadstechiometrických povlaků a možnosti, jak vytvořit silně nadstechiometrické TMNx>1 nitridové povlaky až s TMNx=2, TM jsou přechodové kovy jako Ti, Zr, Mo, Ta, Nb, W, atd. Stechiometrie povlaku x = N/TM silně ovlivňuje jeho elektrické a mechanické vlastnosti. Byla zkoumána příprava a vlastnosti reaktivně naprášených ZrNx povlaků. Bylo zjištěno, že (1) rezistivita ZrNx povlaků se mění s rostoucím x od velmi elektricky vodivých s x ≤ 1 přes polovodivé vrstvy s x mezi 1 a 1,26 na nevodivé s x ≥ 1,3, což potvrzuje, že stechiometrie x je důležitý parametr, který dovoluje kontrolovat elektrickou vodivost povlaku v širokém rozsahu, (2) elektricky vodivé povlaky s x ≤ 1 jsou tvrdší než polovodivé a elektricky nevodivé povlaky a (3) ZrN2 vrstvy nemohou být připraveny, protože vznikající Zr3N4 fáze má vyšší formovací entalpii než ZrN2 fáze. Dále je ukázáno, že hlavním problémem při přípravě silně nadstechiometrických povlaků TMNx>1 a dinitridů TMN2 je potřeba velkého zvýšení ionizace rozprašovacího plynu dusíku k dosažení nezbytného vysokého poměru N/TM > 1.cs
dc.format9 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoenen
dc.publisherJapan Society of Applied Physicsen
dc.rightsPlný text není přístupný.cs
dc.rights© Japan Society of Applied Physicsen
dc.subjectNadstechiometrické nitridové povlakycs
dc.subjectnitridy přechodových kovůcs
dc.subjecttvrdostcs
dc.subjectrezistivitacs
dc.titleCoating of overstoichiometric transition metal nitrides (TMNx (x > 1)) by magnetron sputteringen
dc.title.alternativePovlaky nadstechiometrických přechodových kovových nitridů (TMNx (x > 1)) připravené magnetronovým naprašovánímcs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.rights.accessclosedAccessen
dc.type.versionpublishedVersionen
dc.description.abstract-translatedThis article reports on the formation of strongly overstoichiometric ZrNx>1 and Ti(Al, V)Nx>1 coatings by reactive magnetron sputtering. Problems in the formation of overstoichiometric coatings and possible ways to form strongly overstoichiometric TMNx>1 nitride coatings up to TMNx=2 dinitride coatings are discussed; here, TM are transition metals such as Ti, Zr, Mo, Ta, Nb, W, etc. The coating stoichiometry x = N/TM strongly influences its electrical and mechanical properties. The creation and properties of reactively sputtered ZrNx coatings were investigated. It was found that (1) the electrical resistivity of the ZrNx coating varies with increasing x from well electrically conducting films with x ≤ 1 through semi-conducting films with x ranging from 1 to ≤ 1.26 to non-conductive with x ≥ 1.3, showing that the stoichiometry x is a strong parameter which enables to control an electric conductivity of the coating in a wide range, (2) electrically conductive coatings with x ≤ 1 are harder than the semiconducting and electrically insulating coatings, and (3) the ZrN2 dinitride film cannot be created due to the formation of a Zr3N4 phase whose formation enthalpy is greater than that of a ZrN2 phase. Further, it is shown that the main problem in the formation of strongly overstoichiometric TMNx>1 and dinitride TMN2 coatings is a strong increase of ionization of the nitrogen sputtering gas to achieve a necessary high ratio N/TM > 1. Trends enabling the mastery of formation of the TMN2 dinitride coatings are briefly outlined.en
dc.subject.translatedOverstoichiometric Nitride Coatingsen
dc.subject.translatedTransition Metal Nitriedesen
dc.subject.translatedHardness, Electrical Resistivityen
dc.identifier.doi10.7567/1347-4065/aaec83
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.identifier.document-number459302900024
dc.identifier.obd43924499
dc.project.IDLO1506/PUNTIS - Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnostcs
Vyskytuje se v kolekcích:Články / Articles (KFY)
OBD

Soubory připojené k záznamu:
Soubor VelikostFormát 
OBD19_Musil,Kos,Jaros_clanek.pdf1,45 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít  Vyžádat kopii


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/33855

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD