Full metadata record
DC pole | Hodnota | Jazyk |
---|---|---|
dc.contributor.author | Shen, Yi | |
dc.contributor.author | Jiang, Jiechao | |
dc.contributor.author | Zeman, Petr | |
dc.contributor.author | Šímová, Veronika | |
dc.contributor.author | Vlček, Jaroslav | |
dc.contributor.author | Meletis, Efstathios I. | |
dc.date.accessioned | 2019-12-09T11:00:18Z | - |
dc.date.available | 2019-12-09T11:00:18Z | - |
dc.date.issued | 2019 | |
dc.identifier.citation | SHEN, Y., JIANG, J., ZEMAN, P., ŠÍMOVÁ, V., VLČEK, J., MELETIS, E. I. Microstructure evolution in amorphous Hf–B–Si–C–N high temperature resistant coatings after annealing to 1500 °C in air. Scientific Reports, 2019, roč. 9, č. 5 MAR 2019, s. „3603-1“ - „3603-11“. ISSN 2045-2322. | en |
dc.identifier.issn | 2045-2322 | |
dc.identifier.uri | 2-s2.0-85062584666 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11025/36060 | |
dc.description.abstract | Amorfní povlaky Hf–B–Si–C–N vykazují velmi vysokou vysokoteplotní oxidační odolnost. V této práci je zkoumán vývoj mikrostruktury povlaků Hf7B23Si22C6N40 a Hf6B21Si19C4N47 vyžíhaných do 1500 °C s cílem pochopit jejich vysokou oxidační odolnost. Vyžíhané povlaky vykazují dvouvrstvou strukturu zahrnující původní nadeponovaný materiál s horní zoxidovanou vrstvou. Mikrostruktura zoxidované vrstvy je v obou případech tvořena nanokrystalky HfO2 rozptýlenými v amorfní matrici na bázi SiOx. V případě povlaku Hf7B23Si22C6N40 zůstává spodní vrstva amorfní, zatímco v případě povlaku Hf6B21Si19C4N47 částečně rekrystalizuje a tvoří nanokrystalky HfB2 a HfN, které jsou oddělené fázemi h-Si3N4 a h-BN. Fáze HfB2 a HfN vytváří sendvičovou koherentní nanostrukturu spojenou přes monovrstvu (111)-Hf. Navzdory rozdílnému složení původních povlaků vykazuje rozhraní dvouvrstvé struktury v obou případech podobnou mikrostrukturu s jemným rozmístěním nanokrystalků HfO2, které jsou obklopeny fází SiO2. Vysokoteplotní oxidační odolnost obou povlaků je přisuzována konkrétnímu vývoji mikrostruktury obsahující nanokrystalky HfO2 zabudované v husté matrici na bázi amorfního SiOx a krystalického SiO2 (křemen) na rozhraní dvouvrstvé struktury, které slouží jako bariéra pro difúzi kyslíku a přestup tepla. | cs |
dc.format | 11 s. | cs |
dc.format.mimetype | application/pdf | |
dc.language.iso | en | en |
dc.publisher | Nature Publishing Group | en |
dc.relation.ispartofseries | Scientific Reports | en |
dc.rights | © Nature Publishing Group | en |
dc.subject | Vrstvy Hf–B–Si–C–N | cs |
dc.subject | Pulzní magnetronové naprašování | cs |
dc.subject | Vysokoteplotní oxidační odolnost | cs |
dc.subject | TEM | cs |
dc.title | Microstructure evolution in amorphous Hf–B–Si–C–N high temperature resistant coatings after annealing to 1500 °C in air | en |
dc.title.alternative | Vývoj mikrostruktury amorfních vrstev Hf–B–Si–C–N s vysokoteplotní odolností po vyžíhání do 1500 °C ve vzduchu | cs |
dc.type | článek | cs |
dc.type | article | en |
dc.rights.access | openAccess | en |
dc.type.version | publishedVersion | en |
dc.description.abstract-translated | Recently, amorphous Hf–B–Si–C–N coatings found to demonstrate superior high-temperature oxidation resistance. The microstructure evolution of two coatings, Hf7B23Si22C6N40 and Hf6B21Si19C4N47, annealed to 1500 °C in air is investigated to understand their high oxidation resistance. The annealed coatings develop a two-layered structure comprising of the original as-deposited film followed by an oxidized layer. In both films, the oxidized layer possesses the same microstructure with HfO2 nanoparticles dispersed in an amorphous SiOx-based matrix. The bottom layer in the Hf6B21Si19C4N47 coating remains amorphous after annealing while Hf7B23Si22C6N40 recrystallized partially showing a nanocrystalline structure of HfB2 and HfN nanoparticles separated by h-Si3N4 and h-BN boundaries. The HfB2 and HfN nanostructures form a sandwich structure with a HfB2 strip being atomically coherent to HfN skins via (111)-Hf monolayers. In spite of the different bottom layer structure, the oxidized/bottom layer interface of both films was found to exhibit a similar microstructure with a fine distribution of HfO2 nanoparticles surrounded by SiO2 quartz boundaries. The high-temperature oxidation resistance of both films is attributed to the particular evolving microstructure consisting of HfO2 nanoparticles within a dense SiOx-based matrix and quartz SiO2 in front of the oxidized/bottom layer interface acting as a barrier for oxygen and thermal diffusion. | en |
dc.subject.translated | Hf–B–Si–C–N films | en |
dc.subject.translated | Pulsed magnetron sputtering | en |
dc.subject.translated | High-temperature oxidation resistance | en |
dc.subject.translated | TEM | en |
dc.identifier.doi | 10.1038/s41598-019-40428-6 | |
dc.type.status | Peer-reviewed | en |
dc.identifier.document-number | 460383600015 | |
dc.identifier.obd | 43925890 | |
dc.project.ID | GA17-08944S/Nanostrukturní povlaky syntetizované užitím vysoce reaktivního pulzního plazmatu | cs |
Vyskytuje se v kolekcích: | Články / Articles (KFY) OBD |
Soubory připojené k záznamu:
Soubor | Velikost | Formát | |
---|---|---|---|
OBD19_Zeman,Simova_Vlcek_clanek.pdf | 2,6 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/36060
Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.