Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorBatková, Šárka
dc.contributor.authorČapek, Jiří
dc.contributor.authorRezek, Jiří
dc.contributor.authorČerstvý, Radomír
dc.contributor.authorZeman, Petr
dc.date.accessioned2020-06-22T10:00:16Z-
dc.date.available2020-06-22T10:00:16Z-
dc.date.issued2020
dc.identifier.citationBATKOVÁ, Š., ČAPEK, J., REZEK, J., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P. Effect of positive pulse voltage in bipolar reactive HiPIMS on crystal structure, microstructure and mechanical properties of CrN films. Surface and Coatings Technology, 2020, roč. 393, č. 15 JUL 2020, s. „125773-1“-„125773-7“. ISSN 0257-8972.en
dc.identifier.issn0257-8972
dc.identifier.uri2-s2.0-85083311659
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/37036
dc.description.abstractVrstvy CrN byly připraveny ve třech konfiguracích módu HiPIMS výboje a potenciálu držáku substrátů. Zkoumáme vliv napětí v kladném pulzu (30–400 V) v bipolárním HiPIMS na krystalovou strukturu, mikrostrukturu a související mechanické vlastnosti vrstev a porovnáváme s vlivem standardního DC předpětí na držáku substrátů v unipolárním HiPIMS. Zjistili jsme, že když je držák substrátů na plovoucím potenciálu, jeho nabíjení způsobuje ztrátu rozdílu potenciálů mezi plazmatem a substrátem, který je nutný pro urychlení iontů, a nepozorujeme tak žádný výrazný vývoj s rostoucím kladným napětím. Když je ale držák substrátů uzemněn, vliv kladného napětí je zřejmý a odlišný od vlivu DC předpětí. Důvodem je hlavně rozdíl v energiích vnesených do vrstvy bombardujícími ionty. Vrstvy připravené pomocí bipolárního HiPIMS s napětím v kladném pulzu 90 a 120 V vykazují nejzajímavější vlastnosti, a to vysokou tvrdost (23,5 a 23,1 GPa) při relativně nízkém tlakovém pnutí (1,7 a 1,5 GPa). Tyto výsledky naznačují, že pokud je rostoucí vrstva uzemněna, bipolární HiPIMS je vhodnou metodou pro vylepšení vlastností vrstev.cs
dc.format7 s.
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isoenen
dc.publisherElsevieren
dc.relation.ispartofseriesSurface and Coatings Technologyen
dc.rightsPlný text není přístupný.cs
dc.rights© Elsevieren
dc.subjectBipolární reaktivní HiPIMScs
dc.subjectDržák substrátů na plovoucím potenciálucs
dc.subjectUzemněný držák substrátůcs
dc.subjectDržák substrátů s DC předpětímcs
dc.subjectVrstvy CrNcs
dc.subjectMikrostrukturacs
dc.titleEffect of positive pulse voltage in bipolar reactive HiPIMS on crystal structure, microstructure and mechanical properties of CrN filmsen
dc.title.alternativeVliv napětí v kladném pulzu bipolárního reaktivního HiPIMS na krystalovou strukturu, mikrostrukturu a mechanické vlastnosti vrstev CrNcs
dc.typečlánekcs
dc.typearticleen
dc.rights.accessclosedAccessen
dc.type.versionpublishedVersionen
dc.description.abstract-translatedCrN films were prepared using three different configurations of the HiPIMS discharge mode and the substrate holder potential. We investigate the effect of a positive pulse voltage (30–400 V) in bipolar HiPIMS on the crystal structure, microstructure and resulting mechanical properties of the films, and compare it to the effect of a standard DC bias voltage applied to the substrate holder in unipolar HiPIMS. We find that when the substrate holder is at a floating potential, its charging causes the loss of the plasma-substrate potential difference, necessary for ion acceleration, and no obvious evolution is thus observed with increasing positive pulse voltage. However, when the substrate holder is grounded, the effect of the positive pulse voltage is apparent and different from the effect of the DC bias substrate voltage. That is mainly due to differences in energies delivered into the growing film by bombarding ions. Films prepared using bipolar HiPIMS at a positive pulse voltage of 90 and 120 V exhibit the most interesting properties, namely high hardness (23.5 and 23.1 GPa, respectively) at a relatively low residual compressive stress (1.7 and 1.5 GPa, respectively). The results indicate that as long as the growing film is conductively connected with the ground, bipolar HiPIMS is a suitable method to tailor and improve the film properties.en
dc.subject.translatedBipolar reactive HiPIMSen
dc.subject.translatedFloating substrate holderen
dc.subject.translatedGrounded substrate holderen
dc.subject.translatedDC biased substrate holderen
dc.subject.translatedCrN filmsen
dc.subject.translatedMicrostructureen
dc.identifier.doi10.1016/j.surfcoat.2020.125773
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.identifier.document-number532676600014
dc.identifier.obd43929584
dc.project.IDFV30177/Výzkum a vývoj nových pulzních plazmových technologií pro depozici pokročilých tenkovrstvých materiálůcs
Appears in Collections:Články / Articles (NTIS)
Články / Articles (KFY)
OBD

Files in This Item:
File SizeFormat 
OBD20_Batkova,Capek,Rezek_clanek.pdf2,41 MBAdobe PDFView/Open    Request a copy


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/37036

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

search
navigation
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Publikační činnost / Publications
  3. OBD