Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorRezek, Jiří
dc.contributor.authorHruška, Jan
dc.contributor.refereeSoukup, Zbyněk
dc.date.accepted2014-06-24
dc.date.accessioned2015-03-25T09:46:41Z-
dc.date.available2013-05-01cs
dc.date.available2015-03-25T09:46:41Z-
dc.date.issued2014
dc.date.submitted2014-05-28
dc.identifier60519
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/14686
dc.description.abstractTato práce se zabývá vysoko-výkonovou pulzní magnetronovou depozicí (tzv. HiPIMS) tenkých vrstev dioxidu hafnia. Jsou zkoumány vlastnosti tenkých vrstev HfO2 připravených touto metodou v závislosti na průměrné výkonové hustotě na terči v periodě při délce pulzu 200 s a střídě 10 %. Byly provedeny čtyři depozice s průměrnými výkonovými hustotami 5,5; 18; 33 a 54 Wcm-2. Mezi zkoumané vlastnosti těchto tenkých vrstev patří mikrotvrdost, index lomu, extinkční koeficient a strukturní složení. Také je vyšetřována závislost depoziční rychlosti na průměrné výkonové hustotě. Bylo zjištěno, že depoziční rychlost, mikrotvrdost i Youngův modul rostly se střední výkonovou hustotou. Díky použití řídicího systému bylo dosahováno vysokých depozičních rychlostí (347 nm/min). Všechny vrstvy jsou transparentní. Dále jsou zkoumány časové průběhy celkového tlaku, průtoku kyslíku a magnetronového proudu během depozice.cs
dc.format48 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjectreaktivní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectoxid hafničitýcs
dc.titleVliv průměrné výkonové hustoty na terči během depozice vrstev HfO2 pomocí reaktivního vysoko-výkonového pulzního magnetronového naprašovánícs
dc.title.alternativeThe influence of a average target power density during the deposition of HfO2 films by means of High-Power Impulse Mangnetron Sputteringen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThis thesis deals with high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) of hafnium dioxide thin films. Depending on the average target power density in period with pulse length 200 s and duty 10 %, the properties of HfO2 thin films prepared by means of this method are investigated. Four depositions with average power densities 5.5; 18; 33 a 54 Wcm-2 were performed. The investigated properties of these thin films and the deposition processes are the microhardness, the refraction index, the extinction coefficient, the structure and the deposition rate. It was found, that the deposition rate, the microhardness and the Young modulus increased with the increasing average target power density. Due to the use of a control system, very high depotition rates (up to 347 nm/min) were achieved. All deposited thin films are transparent. The time dependencies of the the overall pressure, the flow of oxygen and the magnetron current were also investigated.en
dc.subject.translatedHiPIMSen
dc.subject.translatedreactive magnetron sputteringen
dc.subject.translatedhafnium dioxideen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Bakalarska prace_Hruska_2014.pdfPlný text práce2,31 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Hruska_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce353,71 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Hruska_oponent.pdfPosudek oponenta práce721,61 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Hruska_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce207,74 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/14686

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)