Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorRezek, Jiří
dc.contributor.authorTichý, Michal
dc.contributor.refereePajdarová, Andrea Dagmar
dc.date.accepted2014-06-24
dc.date.accessioned2015-03-25T09:46:41Z-
dc.date.available2013-05-01cs
dc.date.available2015-03-25T09:46:41Z-
dc.date.issued2014
dc.date.submitted2014-05-06
dc.identifier60521
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/14688
dc.description.abstractTato bakalářská práce se zabývá problematikou přípravy tenkých vrstev HfO2 pomocí reaktivního vysokovýkonového pulzního magnetronového naprašování (HiPIMS) a měření jejich vlastností. Byl zkoumán vliv délky napěťového pulzu na parametry magnetronového výboje, depoziční rychlost a vlastnosti připravených vrstev při zachování průměrné výkonové hustoty na terči <Sd> přibližně 30 W.cm-2, frekvenci f = 500 Hz, v atmosféře Ar + O2, při tlaku argonu pAr = 2 Pa. Proměnným parametrem depozic byla délka pulzu t1, s hodnotami 50, 100, 150 a 200 mikrosekund. Bylo zjištěno, že s rostoucí délkou pulzu roste depoziční rychlost, a to ze 110 nm/min na 194 nm/min. Dále byl zhodnocen vliv napouštění O2 a zjištěny hodnoty řídící veličiny tlaku, při kterých dochází k sepnutí a vypnutí kyslíkového pulzu. RTG analýza ukázala závislost preferované orientace krystalové mříže na délce pulzu. Měření mechanických vlastností ukázalo, že s rostoucí délkou pulzu se hodnoty tvrdosti tenké vrstvy prakticky nemění a měření optických vlastností ukázalo nárůst hustoty vrstvy s délkou pulzu a zároveň zachování stechiometrie vrstev.cs
dc.format51 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectHfO2cs
dc.subjectreaktivní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjectdélka pulzucs
dc.titleVliv délky napěťového pulzu na reaktivní vysokovýkonovou pulzní magnetronovou depozici vrstev HfO2cs
dc.title.alternativeThe influence of a voltage pulse duration on reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering deposition of HfO2 filmsen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThis bachelor thesis deals with the preparation of HfO2 thin films using reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) and measuring of their properties. The influence of a voltage pulse duration on parameters of magnetron discharge, deposition rate and properties of prepared films were studied, while maintaining average power density on the target <Sd> approximately at 30 W.cm-2, frequency f = 500 Hz, in atmosphere of Ar + O2, at a pressure of argon pAr = 2 Pa. The variable parameter of depositions was the pulse duration t1, with values 50, 100, 150, 200 microsecond. It was found out that with increasing pulse duration also the deposition rate is increasing, from 110 nm/min to 194 nm/min. Furthermore, the influence of filling with O2 was studied and values of the control variable pressure, which leads to switching on and off the oxygen pulse, were observed. X-ray analysis showed the dependence of the preferred orientation of the crystal lattice on the pulse duration. The measurement of mechanical properties showed that with increasing pulse duration, the values of hardness of the thin films are practically constant and the measurement of optical properties showed an increase of density of films with increasing pulse duration, while maintaining the stoichiometry of films.en
dc.subject.translatedHfO2en
dc.subject.translatedreactive magnetron sputteringen
dc.subject.translatedHiPIMSen
dc.subject.translatedpulse durationen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Tichy Michal - Vliv delky napetoveho pulzu na reaktivni vysokovykonovou pulzni magnetronovou depozici vrstev HfO2.pdfPlný text práce2,2 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
TichyM_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce329,63 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
TichyM_oponent.pdfPosudek oponenta práce899,38 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
TichyM_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce214,52 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/14688

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta aplikovaných věd / Faculty of Applied Sciences
  4. Katedra fyziky / Department of Physics
  5. Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)