| Název: | Počítačová simulace procesů na terči během reaktivního magnetronového naprašování |
| Autoři: | Benešová, Martina |
| Vedoucí práce/školitel: | Kozák Tomáš, Ing. Ph.D. |
| Oponent: | Čapek Jiří, Ing. Ph.D. |
| Datum vydání: | 2016 |
| Nakladatel: | Západočeská univerzita v Plzni |
| Typ dokumentu: | bakalářská práce |
| URI: | http://hdl.handle.net/11025/23848 |
| Klíčová slova: | reaktivní magnetronové naprašování;metoda bca monte carlo;program sdtrimsp;implantace kyslíku;knock-on implantace kyslíku |
| Klíčová slova v dalším jazyce: | reactive magnetron sputtering;bca monte carlo method;program sdtrimsp;implantation of oxygen;knock-on implantation of oxygen |
| Abstrakt: | Tato práce se zabývá zkoumáním procesů na terči během reaktivního magnetronového naprašování. V práci je shrnuta teorie reaktivního magnetronového naprašování a metodika simulace procesů na terči na atomární úrovni a popsán program SDTrimSP. Byly provedeny simulace přímé implantace a "knock-on" implantace kyslíku do terče v závislosti na energii dopadajících atomů a složení terče. Simulace těchto procesů probíhaly v dynamickém a statickém režimu. Dále je zkoumána závislost relativní koncentrace kyslíku na hloubce v terči pro různé poměry toku atomů argonu a kyslíku a pro terč složený ze zirkonia nebo hliníku, případně tenké vrstvy ZrO2 na povrchu. Na závěr je prostudován průběh odprašování zoxidovaného zirkoniového terče v závislosti na počtu dopadlých atomů argonu na jednotku plochy. |
| Abstrakt v dalším jazyce: | This thesis studies processes on a target during reactive magnetron sputtering. The theory of reactive magnetron sputtering and the methodology of simulations of atomic scale processes on the target are summarized and also SDTrimSP program is described in the first part of the thesis. Simulations of direct implantation and "knock-on" implantation of oxygen into the target for various energy of incident atoms and composition of the target were done. Simulations of these processes were conducted in a dynamic and a static mode. The depth profile of the relative concentration of oxygen in the target for various ratios of incident argon and oxygen atoms is studied for the target composed of zirconium or aluminum, and also for a zirconium target with a thin ZrO2 layer on the surface. Finally, the sputtering of an oxidized zirconium target as function of the fluence of incident argon atoms is studied. |
| Práva: | Plný text práce je přístupný bez omezení. |
| Vyskytuje se v kolekcích: | Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY) |
Soubory připojené k záznamu:
| Soubor | Popis | Velikost | Formát | |
|---|---|---|---|---|
| Bakalarska_prace - Martina_Benesova.pdf | Plný text práce | 1,53 MB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Benesova_vedouci.pdf | Posudek vedoucího práce | 394,31 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Benesova_oponent.pdf | Posudek oponenta práce | 590,63 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
| Benesova_obhajoba.pdf | Průběh obhajoby práce | 214,39 kB | Adobe PDF | Zobrazit/otevřít |
Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam:
http://hdl.handle.net/11025/23848Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.