Title: Počítačové modelování pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje pro depozici vrstev
Authors: Teřl, Vít
Advisor: Pajdarová Andrea Dagmar, Mgr. Ph.D.
Referee: Kozák Tomáš, Ing. Ph.D.
Issue Date: 2019
Publisher: Západočeská univerzita v Plzni
Document type: bakalářská práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/37535
Keywords: magnetronové naprašování;monte carlo kolizní metoda;transport sekundárních elektronů;modelování;ionizace
Keywords in different language: magnetron sputtering;monte carlo collision method;transport of secondary electrons;modeling;ionization
Abstract: Předložená bakalářská práce se zaměřuje na studium ionizace atomů sekundárními elektrony v objemu plazmatu pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje pro depozici vrstev. Na tento úkol byl vytvořen počítačový model. V první části je stručně popsán princip a vývoj pulzního vysokovýkonového magnetronového naprašování a způsoby počítačového modelování plazmatu. Ve druhé části je vytvořen počítačový program implementující metodu Leapfrog a Borisovu metodu na výpočet pohybu elektronů ve výboji a Monte Carlo kolizní metodu na výpočet ionizačních srážek. Pomocí tohoto modelu jsou provedeny simulace na sledování objemové hustoty ionizace atomů pracovního plynu a rozprášeného kovu sekundárními elektrony pro různé výbojové proudy. Výsledné objemové hustoty ionizace atomů dané simulacemi jsou řádně prodiskutovány.
Abstract in different language: The presented thesis is focused on the ionization of different atoms by secondary electrons in high power impulse magnetron sputtering used for thin film deposition. A computer model was developed for this task. In the first part, the principles and development of high power impulse magnetron sputtering and plasma computer simulations techniques are presented. In the second part there are described methods implemented by the developed computer program, mainly Leapfrog method and Boris method for movement of electrons in discharge and Monte Carlo collision method for collision calculations. Simulations are performed to obtain ionization volume density of working gas atoms and sputtered metal atoms. Simulations are obtained by the computer program and are differentiated by different discharge current. Resulting ionization volume density given by simulations are discussed.
Rights: Plný text práce je přístupný bez omezení
Appears in Collections:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
BP_terl.pdfPlný text práce2,82 MBAdobe PDFView/Open
Terl_vedouciBP.pdfPosudek vedoucího práce449,54 kBAdobe PDFView/Open
Terl_oponentBP.pdfPosudek oponenta práce2,27 MBAdobe PDFView/Open
Terl_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce185,52 kBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/37535

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.