Název: Počítačové modelování pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje pro depozici vrstev
Autoři: Teřl, Vít
Vedoucí práce/školitel: Pajdarová Andrea Dagmar, Mgr. Ph.D.
Oponent: Kozák Tomáš, Ing. Ph.D.
Datum vydání: 2019
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: bakalářská práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/37535
Klíčová slova: magnetronové naprašování;monte carlo kolizní metoda;transport sekundárních elektronů;modelování;ionizace
Klíčová slova v dalším jazyce: magnetron sputtering;monte carlo collision method;transport of secondary electrons;modeling;ionization
Abstrakt: Předložená bakalářská práce se zaměřuje na studium ionizace atomů sekundárními elektrony v objemu plazmatu pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje pro depozici vrstev. Na tento úkol byl vytvořen počítačový model. V první části je stručně popsán princip a vývoj pulzního vysokovýkonového magnetronového naprašování a způsoby počítačového modelování plazmatu. Ve druhé části je vytvořen počítačový program implementující metodu Leapfrog a Borisovu metodu na výpočet pohybu elektronů ve výboji a Monte Carlo kolizní metodu na výpočet ionizačních srážek. Pomocí tohoto modelu jsou provedeny simulace na sledování objemové hustoty ionizace atomů pracovního plynu a rozprášeného kovu sekundárními elektrony pro různé výbojové proudy. Výsledné objemové hustoty ionizace atomů dané simulacemi jsou řádně prodiskutovány.
Abstrakt v dalším jazyce: The presented thesis is focused on the ionization of different atoms by secondary electrons in high power impulse magnetron sputtering used for thin film deposition. A computer model was developed for this task. In the first part, the principles and development of high power impulse magnetron sputtering and plasma computer simulations techniques are presented. In the second part there are described methods implemented by the developed computer program, mainly Leapfrog method and Boris method for movement of electrons in discharge and Monte Carlo collision method for collision calculations. Simulations are performed to obtain ionization volume density of working gas atoms and sputtered metal atoms. Simulations are obtained by the computer program and are differentiated by different discharge current. Resulting ionization volume density given by simulations are discussed.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
BP_terl.pdfPlný text práce2,82 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Terl_vedouciBP.pdfPosudek vedoucího práce449,54 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Terl_oponentBP.pdfPosudek oponenta práce2,27 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Terl_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce185,52 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/37535

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.