Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorPajdarová, Andrea Dagmar
dc.contributor.advisorKozák, Tomáš
dc.contributor.authorKrejčová, Milada
dc.contributor.refereeSlavík, Jan
dc.date.accepted2013-08-22
dc.date.accessioned2014-02-06T12:56:20Z-
dc.date.available2012-05-01cs
dc.date.available2014-02-06T12:56:20Z-
dc.date.issued2013
dc.date.submitted2013-08-16
dc.identifier54745
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/9865
dc.description.abstractPředkládaná bakalářská práce se v úvodu zabývá využitím plazmových technologií. Dále popisuje základy magnetronového naprašování, jejich vývoj a použití, přičemž se zaměřuje především na vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování. Poté rozebírá základní metody modelování a simulace plazmatu a zaobírá se jednotlivými modely pro vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje. Ve zvolených metodách zpracování popisuje, jak byl doplněn stávající nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů o parametry nutné k modelování rozprašování tantalu, titanu a zirkonia. Ve výsledcích jsou ukázány a diskutovány závislosti proudové hustoty na třech různých parametrech - výbojovém napětí Ud, koe?cientu zpětného zachycení sekundárních elektronů terčem r a hodnotě faktoru určujícího sekundární emisi elektronů z terče po dopadu iontu rozprašovaného kovu s.cs
dc.format51 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectplazmacs
dc.subjectvysokovýkonové pulzní magnetronové naprašovánícs
dc.subjectrozprašování kovůcs
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjectmodelovánícs
dc.subjectsimulacecs
dc.subjectnestacionární globální modelcs
dc.titleNestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovůcs
dc.title.alternativeNon-stacionary model for High Power Magnetron sputtering of metalsen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThe presented bachelor?s thesis is at the beggining focused on using of plasma tech-nologies. Next, it explains basics of magnetron sputtering, its developement and use, with focus on High Power Impulse Magnetron Sputtering. Afterwards, it discusses ba-sic methods in modelling and simulation of plasma, with closer look on speci?c models for High Power Impulse Magnetron Sputtering discharges. The thesis describes how current non-stationary model for High Power Impulse Magnetron Sputtering of metals was supplemented with parameters necessary for modelling of tantal, titanium and zir-conium sputtering. The results are presented and discussed, with focus on dependence of current density on three parameters: discharge voltage Ud, coe cient of recapture of secondary electrons to target r and factor of secondary emission of electrons from target after impact by ion of sputtered metal s.en
dc.subject.translatedplasmaen
dc.subject.translatedhigh power impulse magnetron sputteringen
dc.subject.translatedsputtering of metalsen
dc.subject.translatedHiPIMSen
dc.subject.translatedmodellingen
dc.subject.translatedsimulationen
dc.subject.translatednon-stacionary global modelen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
BP - Krejcova Milada.pdfPlný text práce4,67 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Krejcova_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce525,03 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Krejcova_oponent.pdfPosudek oponenta práce579,18 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Krejcova_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce202,39 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/9865

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.