Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorVlček, Jaroslav
dc.contributor.advisorKozák, Tomáš
dc.contributor.authorŠula, Michal
dc.contributor.refereeKos, Šimon
dc.date.accepted2013-08-22
dc.date.accessioned2014-02-06T12:56:18Z-
dc.date.available2012-05-01cs
dc.date.available2014-02-06T12:56:18Z-
dc.date.issued2013
dc.date.submitted2013-08-16
dc.identifier54747
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/9867
dc.description.abstractPředložená bakalářská práce se nejdříve zabývá obecným shrnutím současného stavu problematiky pulzního reaktivního naprašování tenkých dielektrických vrstev. Jsou popsány základní údaje a problémy tohoto oboru, a software užitý pro simulace srážek částic SDTrimSP. Dále se práce zabývá popsáním fenomenologického modelu reaktivního naprašování tenkých vrstev jeho následnou analýzou. Jsou prezentovány rovnice modelu, a následně použity k numerické simulaci naprašovacího procesu v kontinuálním, pulzním a HiPIMS režimu. Poté se práce zabývá vlivem některých vstupních parametrů modelu na výsledky výpočtů. Na závěr je shrnuta užitá literatura a zdroje.cs
dc.format39 s.cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectnaprašování tenkých vrstevcs
dc.subjectdielektrické tenké vrstvycs
dc.subjectpulzní reaktivní naprašovánícs
dc.subjectHiPIMScs
dc.subjectfenomenologický modelcs
dc.titleFenomenologický model pro vysokovýkonovou pulzní reaktivní magnetronovou depozici dielektrických vrstevcs
dc.title.alternativeA phenomenological model for high energy pulse reactive magnetron sputtering of dielectric layersen
dc.typebakalářská prácecs
dc.thesis.degree-nameBc.cs
dc.thesis.degree-levelBakalářskýcs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta aplikovaných vědcs
dc.description.departmentKatedra fyzikycs
dc.thesis.degree-programAplikované vědy a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedPresented thesis is first, at the beggining, focused on summation of the current state in the field of pulsed reactive sputtering of dielectric thin films. Basic terms and problems are presented, along with short description of SDTrimSP, a software used for simulation of particle collisions. Next, the work focuses on description of a phenomenological model of reactive sputtering of thin films, and it's following numerical simulation of continual, pulse and HiPIMS modes of sputtering. After that, several input parameters of the model are analysed. At the end, a list of used materials is presented.en
dc.subject.translatedthin films sputteringen
dc.subject.translateddielectric thin filmsen
dc.subject.translatedpulsed reactive sputteringen
dc.subject.translatedHiPIMSen
dc.subject.translatedphenomenological modelen
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
MichalSula-BakPrace.pdfPlný text práce1,86 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Sula_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce295,68 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Sula_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,54 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Sula_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce209,62 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/9867

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.