Title: Optické vlastnosti dielektrických tenkých vrstev
Other Titles: Optical properties of dielectric thin films
Authors: Malán, Martin
Advisor: Netrvalová, Marie
Vavruňková, Veronika
Referee: Bruncko, Jaroslav
Issue Date: 2014
Publisher: Západočeská univerzita v Plzni
Document type: diplomová práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/12384
Keywords: Tenká vrstva;oxid titaničitý (TiO2);magnetronové naprašování;strukturní vlastnosti;optické vlastnosti.
Keywords in different language: Thin film;titanium dioxide;magnetron sputtering;structural properties;optical properties.
Abstract: Předkládaná diplomová práce je zaměřena na optické vlastnosti dielektrických tenkých vrstev. Konkrétně se jedná o vrstvu oxidu titaničitého, která je nadeponovaná na křemíkový substrát. Materiál je díky svým vlastnostem a díky dostupnosti jedním z perspektivních materiálů použitelných například jako antireflexní vrstvy.
Abstract in different language: This diploma thesis is focused on the optical properties of dielectric thin films. Specifically, the layer of titanium dioxide, which is deposited on the silicon substrate. The material is due to its characteristics and due to the availability one of perspective materials used for example as an anti-reflection layer.
Rights: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Appears in Collections:Diplomové práce / Theses (KET)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Diplomova prace.pdfPlný text práce4,26 MBAdobe PDFView/Open
058625_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce291,39 kBAdobe PDFView/Open
058625_oponent.pdfPosudek oponenta práce581,2 kBAdobe PDFView/Open
058625_hodnoceni.pdfPrůběh obhajoby práce171,5 kBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/12384

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.