Full metadata record
DC poleHodnotaJazyk
dc.contributor.advisorCalta, Pavel
dc.contributor.authorPonertová, Adriana
dc.contributor.refereeŘíha, Jan
dc.date.accepted2014-05-29
dc.date.accessioned2015-03-25T09:48:40Z
dc.date.available2013-10-14cs
dc.date.available2015-03-25T09:48:40Z
dc.date.issued2014
dc.date.submitted2014-05-12
dc.identifier58737
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11025/14948
dc.description.abstractPředkládaná diplomová práce je zaměřena na přípravu tenkých vrstev oxidu křemíku deponovaných metodou PECVD s využitím rf výboje (13,56 MHz). Vrstvy byly připraveny za nízké teploty (250 °C) na substráty ze skla Corning Eagle, měděné substráty a křemíkové wafery <100>. Odlišnosti nadeponovaných tenkých vrstev bylo dosaženo změnou průtoků plynných prekurzorů R = [N2O]/[SiH4]. Byl studován účinek R a vliv následného žíhání vzorků ve vzduchu do teploty 1100 °C, na chemické složení vzorků (analýza EDS), na mikrostrukturu vzorků (analýza XRD), na konfiguraci chemické vazby (FT-IR a Ramanova spektroskopie) a na optické vlastnosti připravených vrstev (UV-Vis spektroskopie a elipsometrie). Výsledky získané měřením jsou prezentovány, analyzovány a diskutovány. V závěru práce jsou výsledky zhodnoceny a je uvedeno potenciální využití pro FV aplikace.cs
dc.format85 s. (111 629 znaků)cs
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.language.isocscs
dc.publisherZápadočeská univerzita v Plznics
dc.relation.isreferencedbyhttps://portal.zcu.cz/StagPortletsJSR168/CleanUrl?urlid=prohlizeni-prace-detail&praceIdno=58737-
dc.rightsPlný text práce je přístupný bez omezení.cs
dc.subjectfotovoltaikacs
dc.subjecttenká vrstvacs
dc.subjectoxid křemíkucs
dc.subjectPECVDcs
dc.subjectoptické a strukturní vlastnostics
dc.subjectXRD spektroskopiecs
dc.subjectinfračervená spektroskopiecs
dc.subjectRamanova spektroskopiecs
dc.subjectUV-Vis spektroskopiecs
dc.subjectelipsometriecs
dc.titlePříprava a studium oxidů křemíku s řízenými vlastnostmi pro fotovoltaiku a fotonikucs
dc.title.alternativePreparation and study of silicon oxides with controlled properties for Photovoltaics and Photonicsen
dc.typediplomová prácecs
dc.thesis.degree-nameIng.cs
dc.thesis.degree-levelNavazujícícs
dc.thesis.degree-grantorZápadočeská univerzita v Plzni. Fakulta elektrotechnickács
dc.description.departmentKatedra elektroenergetiky a ekologiecs
dc.thesis.degree-programElektrotechnika a informatikacs
dc.description.resultObhájenocs
dc.rights.accessopenAccessen
dc.description.abstract-translatedThe master thesis is focused on preparation of a-SiOx thin films prepared by a rf (13,56 MHz) plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Films were deposited at low temperature (250 °C) on different substrates from Corning glass, Cu plates and Si wafers <100>. Differences of as-deposited thin films were obtained by varying the gas flow ratio R = [N2O]/[SiH4]. The effects of gas flow ratio R and effects of the post-deposition thermal annealing in air up to 1100 °C to the compositional (by EDS), microstructural (by XRD), chemical bonding configuration (by FT-IR and Raman microscope) and to the optical properties (by UV-Vis spectrophotometer and by spectroscopic ellipsometry) were studied. Results from measuring are presented, analyzed and discussed. Results are evaluated at the end of thesis and conclusions for potential application in photovoltaic as well.en
dc.subject.translatedphotovoltaicen
dc.subject.translatedthin filmen
dc.subject.translatedsillicon oxideen
dc.subject.translatedPECVDen
dc.subject.translatedoptical and structural propertiesen
dc.subject.translatedXRD spektroscopyen
dc.subject.translatedinfrared spectroscopyen
dc.subject.translatedRaman spectroscopyen
dc.subject.translatedUV-Vis spectroscopyen
dc.subject.translatedellipsometryen
Vyskytuje se v kolekcích:Diplomové práce / Theses (KEE)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
DP_Adriana_Ponertova.pdfPlný text práce4,05 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
058737_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce403,97 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
058737_oponent.pdfPosudek oponenta práce472,47 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
058737_hodnoceni.pdfPrůběh obhajoby práce222,72 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Zobrazit minimální záznam Zobrazit statistiky


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/14948

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.

hledání
navigace
  1. DSpace at University of West Bohemia
  2. Vysokoškolské kvalifikační práce / Theses
  3. Fakulta elektrotechnická / Faculty of Electrical Engineering
  4. Katedra elektroenergetiky a ekologie / Department of Electric Power Engineering and Ecology
  5. Diplomové práce / Theses (KEE)