Title: Reaktivní magnetronová depozice Al-Si-N a charakterizace jejich vlastností
Other Titles: Reactive magnetron deposition of Al-Si-N, and the characterization of their properties
Authors: Javdošňák, Daniel
Advisor: Musil, Jindřich
Referee: Rezek, Jiří
Issue Date: 2015
Publisher: Západočeská univerzita v Plzni
Document type: diplomová práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/17813
Keywords: reaktivní magnetronová depozice;nenvyvážený magnetron;al-si-n;mechanické vlastnosti;odolnost proti praskání;indentační zkouška;ohybová zkouška;tvrdost;nanokompozit
Keywords in different language: reactive magnetron deposition;unbalanced magnetron sputtering;al-si-n;mechanical properties;resistance to cracking;indentation test;bending test;hardness;nanocomposite
Abstract: Tato diplomová práce pojednává o mechanických vlastnostech nanokompozitních vrstev Al-Si-N připravených nevyváženým magnetronovým naprašováním ze slitinového terče Al-Si (90 hm.% Al, 10 hm.% Si) a jejich odolnosti proti vzniku trhlin při namáhání ohybem a indentací s vysokým zatížením (až 1 N). Zabývá se hledáním depozičních podmínek, při kterých bude možné připravit vrstvy systému Al-Si-N se zvýšenou odolností proti vzniku trhlin. Vrstvy by měly vykazovat (i) parametr vyjadřující elasticitu H/E^*0.13, (ii) vysokou elastickou vratnost W_e80 %, (iii) makropnutí -1 GPa a (iv) střední potenciál substrátu v době pulzu U_sap|-50 | V, pro zvýšenou odolnost vůči vzniku trhlin.
Abstract in different language: This diploma thesis deals with the mechanical properties of nanocomposite thin films Al-Si-N (Al:Si = 90:10 hm. %) deposited by unbalanced magnetron sputtering, their resistance to cracking in bending test and indentation test with high load until 1 N. This work is mainly focused on seeking appropriate deposition conditions where could be possible to prepare thin films of Al-Si-N system, with enhanced resistance to creation cracks. This films should exhibit (i) a parameter expressing the elasticity of layer H/E^*0.13, (ii) high elastic recovery W_e80 %, (iii) macrostress -1 GPa and (iv) average negative bias in pulse U_sap|-50 | V, for enhanced resistance to cracking.
Rights: Plný text práce je přístupný bez omezení.
Appears in Collections:Diplomové práce / Theses (KFY)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
DP_Javdosnak.pdfPlný text práce3,04 MBAdobe PDFView/Open
vedouci-Javdosnak_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce429,78 kBAdobe PDFView/Open
oponent-Javdosnak_oponent.pdfPosudek oponenta práce1,03 MBAdobe PDFView/Open
obhajoba-Javdosnak_obhajoba.pdfPrůběh obhajoby práce244,9 kBAdobe PDFView/Open


Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11025/17813

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.