| Title: | Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering |
| Other Titles: | Ohebné tvrdé (Zr, Si) slitinové vrstvy připravené magnetronovým naprašováním |
| Authors: | Musil, Jindřich Čiperová, Zuzana Čerstvý, Radomír Haviar, Stanislav |
| Citation: | MUSIL, J., ČIPEROVÁ, Z., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering. Thin Solid Films, 2019, roč. 688, č. 31 OCT 2019, s. „137216-1“-„137216-7“. ISSN 0040-6090. |
| Issue Date: | 2019 |
| Publisher: | Elsevier |
| Document type: | článek article |
| URI: | 2-s2.0-85063863136 http://hdl.handle.net/11025/35394 |
| ISSN: | 0040-6090 |
| Keywords: | Zr-Si slitiny;Tenké vrstvy;Struktura, Mechanické vlastnosti;Mikrostruktura;Odolnost proti vzniku trhlin;Magnetronové naprašování |
| Keywords in different language: | Zirconium-silicon alloy;Thin films;Structure;Mechanical properties;Microstructure;Resistance to cracking;Magnetron sputtering |
| Abstract: | Článek pojednává o vyšetřování mechanických vlastností (Zr, Si) slitinových vrstev s vysokým obsahem Si připravených magnetronovým naprašováním. Hlavním cílem zkoumání bylo vyvinout ohebné tvrdé (Zr, Si) slitinové vrstvy se zvýšenou odolnosti proti vzniku trhlin. (Zr, Si) vrstvy byly připraveny pomocí pulzního duálního magnetronového výboje. Mechanické vlastnosti a prvkové složení (Zr, Si) vrstev byly řízeny záporným předpětím na substrátu, tedy energií dodanou do rostoucí vrstvy dopadajícími ionty. Bylo zjištěno, že pulzní duální magnetronový výboj umožňuje přípravu ohebných tvrdých (Zr, Si) slitinových vrstev s vysokou hodnotou tvrdosti H ≈ 20 GPa, poměrem H/E* > 0,1, elastickou vratností We > 60 %, kompresním pnutím a hustou mikrostrukturou bez pórů. Tyto slitinové vrstvy obsahují stejné množství Zr a Si v at. % a vykazují zvýšenou odolnost proti vzniku trhlin. |
| Abstract in different language: | The article reports on the investigation of mechanical properties of Si-rich (Zr, Si) alloy films deposited by magnetron sputtering. The main aim of this investigation is to develop flexible hard (Zr, Si) alloy films with enhanced resistance to cracking. The (Zr, Si) films were formed by a pulsed dual magnetron discharge. Mechanical properties and elemental composition of sputtered (Zr, Si) films were tuned by a negative substrate bias, i.e. by the energy delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that using of pulsed dual magnetron discharge makes it possible to deposit flexible hard (Zr, Si) alloy films with high values of hardness H ≈ 20 GPa, ratio H/E* > 0.1, elastic recovery We > 60%, compressive macrostress and dense, voids-free microstructure. These alloy films contain the same amount of Zr and Si in at.% and exhibit strongly enhanced resistance to cracking. |
| Rights: | Plný text není přístupný. © Elsevier |
| Appears in Collections: | Články / Articles (KFY) OBD |
Files in This Item:
| File | Size | Format | |
|---|---|---|---|
| OBD19_Musil,Ciperova,Cerstvy_clanek.pdf | 1,36 MB | Adobe PDF | View/Open Request a copy |
Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/11025/35394Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.