Název: Charakterizace elektrických vlastností tenkovrstvých polovodičů na bázi Cu-O and Cu-O-N
Autoři: Lucák, Lukáš
Vedoucí práce/školitel: Kozák Tomáš, Doc. Ing. Ph.D.
Oponent: Čerstvý Radomír, Ing. Ph.D.
Datum vydání: 2024
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: bakalářská práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/57324
Klíčová slova: cuo;cuon;rezistivita;koncentrace nosičů náboje;van der pauwova metoda;hallův jev
Klíčová slova v dalším jazyce: cuo;cuon;resistivity;charge carrier concentration;van der pauw method;hall effect
Abstrakt: Tato bakalářská práce se zaměřuje na zkoumání elektrických vlastností tenkých vrstev oxidu mědi, které byly dopovány dusíkem (Cu-O, Cu-O-N), ve dvou sériích vzorků s různými depozičními podmínkami. Byla změřena rezistivita, koncentrace nosičů náboje a jejich pohyblivost na čtvercových vzorcích pomocí Van der Pauwovy metody. Pro vybrané vzorky byla navíc změřena teplotní závislost těchto veličin v rozmezí teplot od 200 K do 580 K. Pomocí fitování teplotní závislosti koncentrace nosičů náboje byla na základě modelu příměsového polovodiče typu P určena koncentrace akceptorových hladin a jejich aktivační energie. Práce ukázala, že dopování dusíkem zvyšuje koncentraci nosičů náboje a snižuje jejich pohyblivost. S rostoucí koncentrací dusíku v materiálu také klesala rezistivita vrstev.
Abstrakt v dalším jazyce: This bachelor thesis focuses on the investigation of the electrical properties of copper oxide thin films doped with nitrogen (Cu-O, Cu-O-N) in two series of samples with different deposition conditions. Resistivity, charge carrier concentration and mobility were measured on square samples using the Van der Pauw method. In addition, the temperature dependence of these quantities was measured for selected samples in the temperature range from 200 K to 580 K. By fitting the temperature dependence of the charge carrier concentration, the concentration of acceptor levels and their activation energies were determined based on the P-type semiconductor model. The work showed that nitrogen doping increases the concentration of charge carriers and decreases their mobility. The resistivity of the films also decreased with increasing nitrogen concentration in the material.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce / Bachelor´s works (KFY)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Bakalarka-2.pdfPlný text práce2,15 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
BP_Lucak_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce129,43 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
BP_Lucak_oponent.pdfPosudek oponenta práce197,39 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
ProtokolSPrubehemObhajobySTAG.pdfPrůběh obhajoby práce38,34 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/57324

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.