Název: Nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů
Další názvy: Non-stacionary model for High Power Magnetron sputtering of metals
Autoři: Krejčová, Milada
Vedoucí práce/školitel: Pajdarová, Andrea Dagmar
Kozák, Tomáš
Oponent: Slavík, Jan
Datum vydání: 2013
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: bakalářská práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/9865
Klíčová slova: plazma;vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování;rozprašování kovů;HiPIMS;modelování;simulace;nestacionární globální model
Klíčová slova v dalším jazyce: plasma;high power impulse magnetron sputtering;sputtering of metals;HiPIMS;modelling;simulation;non-stacionary global model
Abstrakt: Předkládaná bakalářská práce se v úvodu zabývá využitím plazmových technologií. Dále popisuje základy magnetronového naprašování, jejich vývoj a použití, přičemž se zaměřuje především na vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování. Poté rozebírá základní metody modelování a simulace plazmatu a zaobírá se jednotlivými modely pro vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje. Ve zvolených metodách zpracování popisuje, jak byl doplněn stávající nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů o parametry nutné k modelování rozprašování tantalu, titanu a zirkonia. Ve výsledcích jsou ukázány a diskutovány závislosti proudové hustoty na třech různých parametrech - výbojovém napětí Ud, koe?cientu zpětného zachycení sekundárních elektronů terčem r a hodnotě faktoru určujícího sekundární emisi elektronů z terče po dopadu iontu rozprašovaného kovu s.
Abstrakt v dalším jazyce: The presented bachelor?s thesis is at the beggining focused on using of plasma tech-nologies. Next, it explains basics of magnetron sputtering, its developement and use, with focus on High Power Impulse Magnetron Sputtering. Afterwards, it discusses ba-sic methods in modelling and simulation of plasma, with closer look on speci?c models for High Power Impulse Magnetron Sputtering discharges. The thesis describes how current non-stationary model for High Power Impulse Magnetron Sputtering of metals was supplemented with parameters necessary for modelling of tantal, titanium and zir-conium sputtering. The results are presented and discussed, with focus on dependence of current density on three parameters: discharge voltage Ud, coe cient of recapture of secondary electrons to target r and factor of secondary emission of electrons from target after impact by ion of sputtered metal s.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce (KFY) / Bachelor´s works (DP)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
BP - Krejcova Milada.pdfPlný text práce4,67 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Krejcova_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce525,03 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Krejcova_oponent.pdfPosudek oponenta práce579,18 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
Krejcova_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce202,39 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/9865

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.