Název: Pulzní magnetronová depozice nových nanostrukturních multikomponentních vrstev
Další názvy: Pulsed magnetron deposition of new nanostructured multicomponent films
Autoři: Procházka, Michal
Vedoucí práce/školitel: Vlček, Jaroslav
Kohout, Jiří
Oponent: Kubásek, Milan
Datum vydání: 2013
Nakladatel: Západočeská univerzita v Plzni
Typ dokumentu: bakalářská práce
URI: http://hdl.handle.net/11025/9866
Klíčová slova: vrstvy Hf-B-Si-C;pulzní magnetronové naprašování;zbytkové pnutí;tvrdost;oxidační odolnost
Klíčová slova v dalším jazyce: Hf-B-Si-C films;Pulsed magnetron sputtering;Residual stress;hardness;oxidation resistance
Abstrakt: Vrstvy Hf-B-C vykazují vysokou tvrdost a nízkou rezistivitu. V důsledku toho jsou zajímavé pro mnoho praktických aplikací. Hlavním cílem této práce bylo zkoumat vliv depozičních parametrů a přidávání přímesí na snížení kompresního pnutí a zachování vysoké tvrdosti vrstev připravených pulzní magnetronovou depozicí. Ukázalo se, že změna depozičního tlaku sice vedla ke snížení pnutí, ale za cenu poklesu tvrdosti. Podobné výsledky jsme dostali i při změně depozičního výkonu. Jedinou efektivní cestou se tedy prokázalo přidávání křemíku do vrstvy, které vedlo ke snížení pnutí při zachování vysoké tvrdosti. Zároveň bylo dosaženo lepší oxidační odolnosti materiálu.
Abstrakt v dalším jazyce: Hf-B-C films exhibit high hardness and low electrical resistivity. That makes them interesting for many different applications. The main aim of this study was to investigate the effects of deposition parameters and addition of silicon on compressive stress in films prepared by pulsed magnetron sputtering. It was found that the change of deposition pressure is not an effective way to reduce the residual stress because of worsening of the hardness. The same conclusions were observed in the case of the deposition power. It was proved that the only effective is an addition of silicon which significantly reduce compressive stress without worsening of the hardness and improve oxidation resistance of the material.
Práva: Plný text práce je přístupný bez omezení
Vyskytuje se v kolekcích:Bakalářské práce (KFY) / Bachelor´s works (DP)

Soubory připojené k záznamu:
Soubor Popis VelikostFormát 
Bakalarska prace - Michal Prochazka.pdfPlný text práce2,01 MBAdobe PDFZobrazit/otevřít
ProchazkaM_vedouci.pdfPosudek vedoucího práce296,12 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
ProchazkaM_oponent.pdfPosudek oponenta práce588,5 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít
ProchazkaM_otazky.pdfPrůběh obhajoby práce216,24 kBAdobe PDFZobrazit/otevřít


Použijte tento identifikátor k citaci nebo jako odkaz na tento záznam: http://hdl.handle.net/11025/9866

Všechny záznamy v DSpace jsou chráněny autorskými právy, všechna práva vyhrazena.